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氯气/氯化氢深度干燥、三氯氢硅尾气回收

氯气/氯化氢深度干燥、三氯氢硅尾气回收

  • 分类:研究成果
  • 作者:
  • 来源:
  • 发布时间:2010-09-29
  • 访问量:0

氯气/氯化氢深度干燥、三氯氢硅尾气回收

  • 分类:研究成果
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  • 发布时间:2010-09-29
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一、TSA法氯气/氯化氢干燥

 

1、概述

在多晶硅行业生产工艺中,需要通过化学手段获得高纯度的三氯氢硅,而三氯氢硅的合成必须使用高纯度的氯气、氢气和氯化氢气体(水含量≤10~20ppm),因此必须对商品氯气(含水400~1000ppm)和合成的氯化氢(含水1000~3000ppm)进行深度干燥,在氯碱行业,需要将氯气干燥用于化工生产原料。我公司提供干燥剂及干燥工艺,可将氯气干燥到2ppm以下,装置运行平稳、可靠,目前这类装置我公司市场占有率达90%以上。

 

2、技术指标
压力:常压~2.0Mpa
温度:常温(不含再生)
氯气/氯化氢中含水量:≤2~20ppm  (可调)
处理气量:50~10000Nm3/h

3、变温吸附法干燥电子级高纯氯气/氯化氢有如下优点
(1)氯化氢合成前后的净化全部采用吸附方法,生产规模不受限制,流程简单,自动化
程度高,操作简便。
(2)大幅度降低动力消耗和提高产品质量。
(3
)较传统方法投资省,建设周期短,占地面积小。
(4)所用设备结构简单,不需特殊材料。
(5)干燥装置氯气/氯化氢损失小,回收率高,无环境污染。

 

二、TSA法从SiHCl3或多晶硅尾气回收氯化物及氢气

1、概述

在三氯氢硅或多晶硅生产过程中,大量含有各种氯硅烷和氯化氢的气体需要排放。由于氯硅烷及氯化氢的特殊性质,需投入大量资金进行尾气的处理,同时也造成生产过程中三氯氢硅收率降低。

我公司研制的氯硅烷专用吸附剂,可将氯硅烷近100%的回收,同时使回收的氢气和氯硅烷中,不含任何有害杂质,完全满足多晶硅生产的要求。

 

2、技术指标

氯化物回收技术指标

操作温度:         0.5~5.0Mpa

操作温度:          常温(吸附分离过程)

处理气量:          10~30000Nm3/h

氯硅烷回收率:      ≥99.99%

氢气纯度:          ≥99.999%

回收氯硅烷压力:    常压

回收氢气压降:      ≤0.05Mpa

回收的氢气碳含量:  ≤20ppb(满足多晶硅还原炉对氢气的质量要求)
 

3、TSA回收氯化物装置优点
(1
)采用专用吸附剂,对氯化物和其它气体的分离系数非常高,可对低分压的氯化物进行
有效的吸附分离;
(2)回收的氯化物和氢气均不含其它有害物质,完全可满足多晶硅装置的生产要求。
(3
)采用吸附方式,流程简单、能耗低,自动化程度高,操作简单,且其生产规模不受限
制;
(4)装置投资低,减少周期短、占地面积小。

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